书目详细信息
： 稀土高K栅介质材料
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-118-09405-3:CNY68.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 稀土高K栅介质材料/.冀婷著 |
| 出版发行项： | 北京:,国防工业出版社:,2014 |
| 载体形态项： | 167页:;+图:;+21cm |
| 提要文摘： | 本书主要介绍稀土高K栅介质材料Er203、Tm203薄膜的生长、结构及其特性，重点介绍了利用分子束外延方法获得超薄高K氧化物薄膜的方法，并运用多种手段对薄膜的生长过程、结构、电学特性及能带排列等进行了研究。本书较为全面、系统地介绍了Er203、Tm2 03作为高K栅介质候选材料的制备及相关物理性质。 |
| 题名主题： | 稀土金属 棚介质 介质材料 |
| 中图分类： | TG146.4 |
| 个人名称等同： | 冀婷 著 |
| 个人名称等同： | 徐闰 著 |
| 个人名称等同： | 朱燕艳 著 |
| 个人名称等同： | 方泽波 著 |
| 记录来源： | CN SJT 20150406 |